高溫蒸鍍儀，KT-Z1650CVD，石英＋不銹鋼腔體，觸摸屏控制，工藝儲存功能，自動電控擋板保護樣品

在厚度為2nm (20埃)或更厚時膜是連續(xù)的。通常的沉積形式是加熱碳或石墨棒。棒具有特定的形狀以達到最大電流密度，使得它具有足夠的溫度來引起蒸發(fā)。基于這點，出現(xiàn)了細小的、亮的、熱的碳顆粒。此系統(tǒng)需要用擴散泵或渦輪分子泵達到1x10-4 mbar或更高的真空度。
渦輪分子泵在K950X中作為標準配置，此泵作為機械真空泵的后級泵，真空為全自動控制，真空度優(yōu)于1x10-5 mbar。可進行預熱及除氣控制，同時用瞬時蒸發(fā)開關使脈沖蒸發(fā)在用戶控制下進行。
標準的旋轉(zhuǎn)樣品臺可進行傾斜調(diào)節(jié)，非常容易適應各種樣品座。

以下是不同真空度 不同鍍膜時間鍍銅樣品圖

  原樣品沒有鍍膜                        115A 100秒 機械泵

115A 100秒 分子泵抽12分鐘      115A 120秒 分子泵抽20分鐘

真空度越高 越不易氧化 越接近金屬本色

高溫蒸鍍儀KT-Z1650CVD